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利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術，是發(fā)展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩(wěn)定等優(yōu)點，我們在傳統(tǒng)多弧的基礎上，對靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率、細化顆粒，膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密，硬度耐磨性提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之間，是普通裝飾鍍和工具鍍膜的機型。
根據(jù)市場的需求公司研制出輔助陽極、磁過濾、矩形平面靶、圓柱旋轉電弧靶等衍生產品，沉積的膜層達到納米量級，是制備高硬度、高結合力、高耐膜性a-tc、DLC膜層的良好選擇。
技術參數(shù)：
真空箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm，并可以根據(jù)客戶具體要求設計非標產品。
夾具方式：采用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-15轉/分鐘可調，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規(guī)格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。
控制氣體方式：采用質量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反應速度快，可以配加自動壓強控制。
靶：采用整體制造技術，結構合理而簡單，維護更換靶材方便，具有自動/手動引弧功能。
電源：配置直流脈沖電源（電壓、占空比可調節(jié)），逆變電弧電源。
抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10
