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產(chǎn)品特點:
該機型是在電阻蒸發(fā)鍍膜機的基礎(chǔ)上，配備磁控圓柱和磁控平面靶。設(shè)備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層，也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶，可以進行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等，可以的控制膜厚，是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機配件等材料的機器，一機多用是該機型的價值所在。
技術(shù)參數(shù):
▲真空室箱體：主要規(guī)格有1000*1200mm，1200*1500mm、1800*1950箱式結(jié)構(gòu)、雙開門，并可根據(jù)用戶產(chǎn)品的要求定做非標準產(chǎn)品。
▲夾具方式 ：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規(guī)格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。
▲控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反映速度快，可以配加自動壓強控制。
▲靶:除電阻蒸發(fā)外，另配置圓柱、平面靶，靶材根據(jù)實際要求選擇。
▲電源：配備直流電源，高壓轟擊電源，及蒸發(fā)大電流電源。
▲抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10
