名片曝光使用說(shuō)明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開(kāi)啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí),曝光服務(wù)將自動(dòng)失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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產(chǎn)品推薦

英國(guó)Thermco公司擴(kuò)散爐、LPCVD、氧化爐、退火爐、合金化爐  產(chǎn)品概述 英國(guó)Thermco Systems公司成立于1962年,是世界上著名的臥式擴(kuò)散爐、氧化爐、退火爐、合金化爐及LPCVD爐的制造商,在全球各處的半導(dǎo)體制造廠里都有大量的安裝應(yīng)用,迄今為止安裝記錄已超過(guò)20000管。 根據(jù)基片尺寸以及產(chǎn)量要求的不同,HTR系列可分為6200,5100/5200,4500/4900,2400/2600等;可處理4¨~10¨的基片,每管處理能力分別可達(dá)25片、50片或100片;根據(jù)配置不同的工藝氣源及溫度控制范圍,各型號(hào)的產(chǎn)品均可用于LPCVD、擴(kuò)散及氧化等熱處理反應(yīng)工藝。  產(chǎn)品應(yīng)用 標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體工藝 ?LPCVD氮化硅(標(biāo)準(zhǔn)型) ?LPCVD氮化硅(低應(yīng)力型) ?LPCVD斜坡溫度多晶硅 ?LPCVD一致晶粒多晶硅 ?LPCVD氧化層TEOS(正硅酸乙脂) ?LPCVD VLTO(低溫氧化) ?LPCVD BPSG(硼磷硅玻璃) ? 高溫氧化 ? 干法氧化 ? 濕法氧化 ? 摻雜擴(kuò)散 (3-4路液相摻雜管路 ( POCL3 or BBR3)) ? 5-6路TCA或Hcl氣路 ? 混合氣體退火 ? 高溫?zé)峄鼗?? 低溫退火和合金化 ? 高溫驅(qū)入(Drive in) 標(biāo)準(zhǔn)LED工藝 ?高真空退火(環(huán)境可控) ?低溫合金化/退火 標(biāo)準(zhǔn)PV(太陽(yáng)能)工藝 ?濕氧/干氧 ?PN結(jié)驅(qū)入 ?Forming氣體退火 ?氫氣退火 ?低溫?zé)崽幚??POCl3,BBr3 PN結(jié)和槽 ?反射氮化膜(ARC Nitride coating) 標(biāo)準(zhǔn)MEMS(微機(jī)電)工藝 ?低應(yīng)力CVD氮化物 ?氧氮化物SIPOS ?厚氧 ?TEOS,良好的臺(tái)階覆蓋能力 ?多晶硅和摻雜多晶硅

產(chǎn)品推薦
“英國(guó)Thermco公司擴(kuò)散爐氧化爐”信息由發(fā)布人自行提供,其真實(shí)性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎,請(qǐng)注意調(diào)查核實(shí)。
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