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多弧離子鍍膜設備：我們在該鍍膜設備的設計與加工方面已經(jīng)成熟，已穩(wěn)定在工具鍍膜被覆處理多種超硬陶瓷薄膜包括氮化鈦（Tin）、碳化鈦（Tic）、氮碳化鈦（TiCn）、氮化鋯（Zrn）、氮化鉻（Crn）、氮化鋁鈦（TiAln）等。經(jīng)適當?shù)谋∧ぜ庸ず蟮墓ぜ?，可以提?至10倍的壽命?？梢越档统杀?，提高生產(chǎn)效率，改善產(chǎn)品質(zhì)量。廣泛應用：工藝陶瓷，切削刀工具業(yè)：如硬質(zhì)合金、鉆頭、銑刀等刃具。精密模具業(yè)：沖棒標準件模具、成型模具等。汽車工業(yè)：活塞、活塞環(huán)等易磨損零件。
型號JTL-800 JTL-1000 JTL-1250
真空室尺寸￠800×1000MM￠1000×1000MM￠1250×1100MM
鍍膜方式及主要配置
六個多弧源+一套圓柱靶+一套平面矩形磁控濺射靶
八個多弧源+一對孿生（中頻）磁控濺射靶+一套平面矩形磁控濺射靶
十二個多弧源+一對孿生（中頻）磁控濺射靶+兩套平面矩形磁控濺射靶
鍍膜方式及主要配置
電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線性離化源
工藝氣體控制質(zhì)量流量計+電磁陶瓷閥
真空室結構立式側(cè)（單）開門結構，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷
真空系統(tǒng)組成分子泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA）
工件烘烤溫度常溫到500度可調(diào)可控(PID控溫),輻射加熱
工件運動方式公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速,0~20轉(zhuǎn)/分
測量方式數(shù)顯復合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA
控制方式手動/自動/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選
備注以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做
