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離子注入裝置SOPHI-400可以支持Max2400KeV的高能量離子注入裝置。
特長(zhǎng)
·單葉式
·支持稀薄Wafer
·平行光束
用途
·功率器件等薄型基板工藝、IGBT工藝
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離子注入機(jī)SOPHI-400
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- 聯(lián)系人姓名：張女士
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- 1 2024-07-05 化車身鋁壓鑄件關(guān)鍵技鋼鋁開卷落料線項(xiàng)目術(shù)開發(fā)項(xiàng)目 7270.0萬(wàn)0萬(wàn)人人民幣
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青島泰斯邁儀器設(shè)備有限公司
半導(dǎo)體設(shè)備,蒸發(fā)臺(tái),蒸發(fā)臺(tái)Esz系列,刻蝕機(jī)NLD-570,蒸發(fā)臺(tái)Ei系列,濺射臺(tái)SME-200,離子注入機(jī)SOPHI,刻蝕機(jī)550EX,濺射臺(tái)
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