用途
鎢靶和鎢鈦合金靶、鎢硅復合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復雜和高性能的薄膜材料。由于鎢或超鎢(5 N或6 N)具有對電子遷移的高電阻、高溫穩(wěn)定性以及能形成穩(wěn)定的硅化物,在電子工業(yè)中常以薄膜形式用作柵極、連接、過渡和障礙金屬。超鎢及其硅化物還用于超大規(guī)模集成電路作為電阻層、擴散阻擋層等以及在金屬氧化物半導體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽能電池的過渡金屬層。
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鎢靶和鎢鈦合金靶、鎢硅復合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復雜和高性能的薄膜材料。由于鎢或超鎢(5 N或6 N)具有對電子遷移的高電阻、高溫穩(wěn)定性以及能形成穩(wěn)定的硅化物,在電子工業(yè)中常以薄膜形式用作柵極、連接、過渡和障礙金屬。超鎢及其硅化物還用于超大規(guī)模集成電路作為電阻層、擴散阻擋層等以及在金屬氧化物半導體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽能電池的過渡金屬層。
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