真空電鍍的特點:
1> 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格復(fù)制出啤件表面的形狀。
2> 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴。
3> 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低。
4> 只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾。
5> 對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷。
6> 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。
真空鍍是物理的,真空鍍也分導(dǎo)電與不導(dǎo)電的,對有ESD,射頻有要求的產(chǎn)品有利,真空鍍可以做到半透明。
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