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一、技術(shù)原理：
光氫離子凈裝置是利用高強(qiáng)度的寬頻光子波發(fā)生管和特殊高分子材料制作的光催化媒介，產(chǎn)生離子、電子、低濃度氧離子、過(guò)氧化氫、羥自由基以及大量的負(fù)離子。
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1. 利用O3（臭氧）的強(qiáng)氧化性
光氫離子催化氧化設(shè)備是利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。眾所周知臭氧具有極強(qiáng)的氧化性，主要利用185nm紫外線持續(xù)和O2結(jié)合產(chǎn)生臭氧來(lái)分解有機(jī)廢氣。
2.“七種催化涂層技術(shù)”加強(qiáng)了-C波段紫外線照射數(shù)倍；增加了-C波段光段的反射，使-C波反射再次利用；次涂層材料屬于惰性材質(zhì)，在-C波段紫外線的照射下?lián)]發(fā)催化劑進(jìn)行廢氣再次催化。徹底去除廢氣中有毒、有害、有味氣體。
3.臭氧在該光量子的作用下可產(chǎn)生大量的新生態(tài)氫、活性氧和羥基氧等活性基團(tuán)，一部分惡臭物質(zhì)也能與活性基團(tuán)反應(yīng)，終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O等無(wú)害物質(zhì)，從而達(dá)到徹底去除惡臭氣體的目的。當(dāng)控制反應(yīng)條件，可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或使速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速，大大提高了反應(yīng)器的作用效率。
