產(chǎn)品分類 更多>>
應(yīng)用領(lǐng)域：
CVD系列真空氣氛管式爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)等等；也可適用于金屬材料的擴(kuò)展焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理.
產(chǎn)品特點(diǎn)：
高溫CVD系列管式爐專門設(shè)計(jì)用于高溫材料沉積之用。 硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預(yù)抽真空,便于通入?yún)⒓臃磻?yīng)的氣體,進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制、溫區(qū)設(shè)計(jì)隔板結(jié)構(gòu)。具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、溫區(qū)間溫度擾動(dòng)小、升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，是理想的科研設(shè)備。
技術(shù)指標(biāo)：
設(shè)備型號(hào)
CVD（D）-06/60/3
CVD（Z）-06/30/1
CVD（G）-07/50/2
CVD（G）-09/50/1
最高溫度
1050℃
1300℃
