產(chǎn)品特點(diǎn) 1、 連續(xù)產(chǎn)出超水，出水水質(zhì)具有的穩(wěn)定度，以率產(chǎn)生超水(產(chǎn)率可以高達(dá)95%); ? ? ? 2、 模塊化生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)設(shè)備的全自動(dòng)控制; ? ? ? 3、 不需要酸堿再生，不會(huì)因?yàn)樵偕C(jī); ? ? ? 4、 不需要酸堿稀釋運(yùn)輸設(shè)施和酸堿儲(chǔ)備; ? ? ? 5、 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，體積小，占地面積少; ? ? ? 6、 使用安全，避免人工接觸酸堿; ? ? ? 7、 節(jié)省了反沖和清洗用水，無(wú)再生污水，不須污水處理設(shè)備; ? ? ? 8、 安裝簡(jiǎn)單方便，安裝費(fèi)用低廉;減低設(shè)備的運(yùn)行成本及維修成本; ? ? ? 9、 設(shè)備運(yùn)行操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度較低; 處理工藝 EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透（RO）水 作為EDI給水。RO水電 導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃)。 EDI水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃ )，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI水適 用 于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的超水。 ? ? ? EDI電去離子裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。 EDI組件中將一定數(shù)量的 EDI單元間 用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極 。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室 水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到 濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶 出系統(tǒng)，成為濃水。 ? ? ? EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透（RO）水 作為EDI給水。RO水電 導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃)。 EDI水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃ )，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI水適 用 于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的超水。 凈化原理 EDI模塊將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI模塊中將一定數(shù)量的EDI單元間 用格板隔開(kāi)，形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中 的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)， 成為濃水. EDI設(shè)備一般以二級(jí)反滲透(RO)水作為EDI給水。RO水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI 水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI超水適用于制備電阻 率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的水。 ? ? ?EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和 化工工業(yè)水設(shè)備的應(yīng)用中也日趨廣泛。