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Atonarp 適用于半導(dǎo)體過(guò)程控制在線質(zhì)譜儀 Aston?
上海伯東代理日本 Atonarp 過(guò)程控制質(zhì)譜儀 Aston?, 通過(guò)使用分子傳感技術(shù), 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷, 為半導(dǎo)體過(guò)程控制提供解決方案, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝 Aston, 可在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!
Aston? 特性
實(shí)時(shí)過(guò)程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無(wú)燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具完全集成
Aston? 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Atonarp Aston? 技術(shù)參數(shù)
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號(hào) | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質(zhì)量分離 | 四級(jí)桿 | |||||
真空系統(tǒng) | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
檢測(cè)器 | FC /SEM | |||||
質(zhì)量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測(cè)限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Atonarp Aston? 應(yīng)用: 半導(dǎo)體工藝過(guò)程控制和優(yōu)化的重大發(fā)展, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率
Aston? 是一款全新設(shè)計(jì)堅(jiān)固耐用的緊湊型在線質(zhì)譜儀, 適用于半導(dǎo)體制造和工業(yè)過(guò)程控制應(yīng)用中氣體監(jiān)測(cè)和控制, 高定量精度和實(shí)時(shí)性與生產(chǎn)穩(wěn)健性和可靠性相結(jié)合, 例如半導(dǎo)體 dry pump 尾氣偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)在線監(jiān)控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過(guò)渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識(shí)別跟蹤分子
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