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眾誠(chéng)達(dá)公司燒結(jié)爐全部是設(shè)備，并結(jié)合自身工藝進(jìn)行設(shè)計(jì)，燒結(jié)爐熱穩(wěn)定性強(qiáng)，爐內(nèi)各方向溫度差不超過(guò)20°。這種爐體燒制的靶材密度高，機(jī)械強(qiáng)度高，顏色一致性好。超高溫?zé)Y(jié)使靶材脫氧充分，導(dǎo)電性強(qiáng)，適合大功率濺射，而且靶材粉塵量少。公司產(chǎn)品包括陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2，三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、五氧化二鉭靶Ta2O5，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鋅靶ZnO、氧化鋯靶ZrO、氧化鎂靶MgO，ITO靶In2O3 SnO2、單晶硅靶Sc-Si、多晶硅靶.Ac-Si、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2、氟化鋰靶LiF、氟化鋇靶BaF3，碳化硼靶B4C，氮化硼靶B4N、碳化硅靶SiC，硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、硒化鋅靶ZnSe、砷化鎵靶、磷化鎵靶、錳酸鋰靶，鎳鈷酸鋰靶，鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶，氧化鋅鎵靶，氧化鋅硼靶等…度：《99.9%—99.999%》根據(jù)客戶要求加工成各種規(guī)格尺寸的靶材。深圳市眾誠(chéng)達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司主要生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)靶材，靶材是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料，主要使用在微電子，顯示器，存儲(chǔ)器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于技術(shù)的各種薄膜材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一。用加速的離子轟擊固體表面，離子和固體表面原子交換動(dòng)量，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，這一過(guò)種稱(chēng)為濺射。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的源材料，通常稱(chēng)為靶材。用靶材濺射沉積的薄膜致密度高，與基才之間的附著性好。
