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眾誠達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司主要生產(chǎn)經(jīng)營磁控濺射鍍膜靶材與靶材綁定。靶材包括：單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶，鉻靶，銅靶，鎳靶，硅靶，鍺靶，鈮靶材，鈦鈀，銦靶，銀靶，錫靶，石墨靶，鉭靶，鉬靶，金靶，鉿靶，錳靶，鋯靶，鎂靶，鋅靶，鉛靶，銥靶，釔靶，鈰靶，鑭靶，鐿靶，釓靶，鉑靶等單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶，AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶，氧化釔靶，氧化鐵靶材，,氧化鎳靶，氧化鉻靶，氧化鋅靶，硫化鋅靶，硫化鎘靶材，硫化鉬靶，二氧化硅靶，一氧化硅靶，二氧化鋯靶，五氧化二鈮靶，二氧化鈦靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，氟化鎂靶，硒化鋅靶，氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶材，鈮酸鋰靶，鈦酸鐠靶材，鈦酸鋇靶，鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對密度大于95-99%?？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。
合金濺射靶材：鎳釩合金靶，鎳鉻合金靶，鈦鋁合金靶，硅鋁合金靶，銅銦合金靶，銅鎵合金靶，銅銦鎵合金靶，銅銦鎵硒靶，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶，鎢鈦靶，，鐵鈷靶，白銅靶等合金濺射靶材。
備注：CNM生產(chǎn)的合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），度高（99.9-99.999%）?？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。
