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石英坩堝清洗設(shè)備
石英坩堝清洗設(shè)備簡介：
石英坩堝清洗設(shè)備http://www.jd-clean.cn/products-detail.asp?cpid=133
1．石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點。
2、不能和HF接觸，高溫時，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。
3．石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。
4．石英質(zhì)脆，易破，使用時要注意。
5．除HF外，普通稀無機(jī)酸可用作清洗液。國內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國內(nèi)坩堝生產(chǎn)大廠家生產(chǎn)的坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂由美國和挪威石英砂兩種。也有小廠使用國產(chǎn)料其原料生產(chǎn)的石英坩堝對拉制單晶硅時其穩(wěn)定性都有一定影響。
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