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MKZ-T3 型立式微波真空高溫爐
適用范圍
適用于真空、氛圍條件下各類固體材料的高溫合成、燒結(jié)、熔融及熱處理等
功能描述
1、采用不銹鋼真空箱體設(shè)計(jì)，既能承擔(dān)負(fù)壓，又可減少反應(yīng)氣氛的腐蝕
2、允許氣氛環(huán)境：空氣、氮?dú)狻鍤?、氧氣等多種氣體
3、適合不含水物料的高溫加熱，真空度可達(dá)-0.099Mpa（青島海拔高度測得數(shù)據(jù)）
4、紅外測試儀，可以不接觸測試物料溫度，避免微波場干擾
5、高溫加熱區(qū)容積：8L，約200×200×200mm（寬×深×高）
6、根據(jù)物料特性，較高溫度可達(dá)到1500℃，長時間連續(xù)工作溫度100～1400℃
7、采用PLC自動控制，溫度和功率均智能可控，液晶對話界面
8、內(nèi)置高溫?fù)Q熱器，適合高溫氣體排除
9、懸臂門，多層防護(hù)，杜絕微波泄漏和氣體密封
10、門體多重連鎖結(jié)構(gòu)，開門斷電，保護(hù)操作人員，微波泄漏防護(hù)符合國標(biāo)
規(guī)格參數(shù)
1、220V/50Hz（或者380V/50Hz可選）電源供電
2、多源微波饋入，較大輸出微波功率3200W
3、外尺寸約900×700×1860mm（寬×深×高）
