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真空蒸鍍是將工件裝入電鍍機內(nèi)，然后將室內(nèi)空氣抽走，達到一定的真空度后，將室內(nèi)的鎢絲通電加熱。當(dāng)達到一定的溫度后，鎢絲上所放置的金屬絲氣化，然后隨著室內(nèi)的工件的轉(zhuǎn)動均勻的沉積在工件表面，形成金屬膜。一般常見的電鍍用金屬有鋁、鎳、銅等等。但由于熔點，工藝控制等方面的原因，鍍鋁成為流行的做法。
真空濺鍍主要利用輝光防電將氬氣AR離子撞擊靶材表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都是用磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊幾率增加，提高濺鍍速率。
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