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磁控濺射靶材
（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車(chē)玻璃行業(yè)，薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）
單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶Al，鉻靶Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，硅靶Si等單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3，氧化鐵靶Fe2O3，氧化鎳靶Ni2O3，氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS等高密度陶瓷濺射靶材。
備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝；惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
合金濺射靶材：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦 W-Ti，鐵鈷 Fe-Co，白銅靶等合金濺射靶材。
備注：CNM生產(chǎn)的合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9%），度高（99.9-99.999%）?？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。
