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日本氟氧化釔 日本氧化釔
作為半導體制造設(shè)備內(nèi)部的保護性涂層，半導體乾蝕設(shè)備內(nèi)部暴於高反應(yīng)性鹵素或氧系電漿。若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以原本狀態(tài)使用，則會發(fā)生表面腐蝕而伴隨著生成粒子，其造成半導體上之微觀電路的缺陷。因此，於半導體制造設(shè)備之待外露的表面提供用以賦予抵御電漿的耐蝕性和保護設(shè)備之元件的保護性涂層。此保護性涂層之一是對於種類繁多的電漿展現(xiàn)耐蝕性的氟氧化釔。
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