名片曝光使用說(shuō)明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí),曝光服務(wù)將自動(dòng)失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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Fluid Purification GE阻垢劑MDC150 Argo MDC150阻垢劑與傳統(tǒng)阻垢劑的技術(shù)特點(diǎn)比較   晶體修改型阻垢劑 Argo MDC 150阻垢劑 阻垢劑類型 晶體修改型 阻止晶體生成型 阻垢原料 含磷小分子或含磷多元共聚物(有機(jī)膦)與其他高分子聚合物的復(fù)合配方 樹枝狀聚合物Dendrimer的高純度單一合成體 生產(chǎn)工藝 買來(lái)用于鍋爐或冷卻循環(huán)水阻垢的原料藥劑按一定比例復(fù)合配制,難以保證配方 純度和溶解度 擁有世界科技前沿完整生產(chǎn)線及專利技術(shù)自行生產(chǎn)合成Dendrimer 阻垢原理 促使金屬微晶(Ca2++SO42-=CaSO4)生成后再通過(guò)對(duì)晶體生長(zhǎng)進(jìn)行修改,阻止微晶長(zhǎng)大為 沉淀 直接阻止微晶(CaSO4)生成 阻垢產(chǎn)物 大量微晶生成并懸浮于濃水中,當(dāng)其覆蓋 于膜表面時(shí),則導(dǎo)致反滲透膜污堵 無(wú)微晶生成 阻垢劑對(duì)膜的污染影響 含磷分子設(shè)計(jì)導(dǎo)致其本身也可與膜表面 生成氫鍵鏈接,從而導(dǎo)致膜的污堵 樹枝狀聚合物Dendrimer與膜不會(huì)發(fā)生任何反應(yīng)或附著 阻垢方式對(duì)膜的污染影響 由于其本質(zhì)為較原始的螯和掩蔽,故會(huì)有大量微晶生成,當(dāng)加藥量過(guò)大時(shí),微晶會(huì)在 膜表面形成凍膠狀排列,導(dǎo)致膜的污染 Dendrimer的阻垢方式為完全防止微晶產(chǎn)生,所以不會(huì)在膜表面產(chǎn)生任何污染
產(chǎn)品推薦
“GE阻垢劑MDC150”信息由發(fā)布人自行提供,其真實(shí)性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎,請(qǐng)注意調(diào)查核實(shí)。
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