名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

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步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務,服務費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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描述:

BBO晶體( β相偏硼酸鋇晶體,β-BaB2O4 )是具有綜合優(yōu)良性能的非線性光學晶體,其寬透明范圍和相匹配范圍,大的非線性系數(shù),高的抗光損傷閾值、寬溫度帶寬以及優(yōu)越的光學均勻性,為各種非線性光學應用提供了實際可能性。目前國際上主要用于將800nm左右鈦寶石激光器倍頻至400nm左右紫外光,和一些皮秒飛秒脈沖工業(yè)激光器的倍頻以及OPO系統(tǒng),電光開關等。

 

BBO晶體的主要特點:

可實現(xiàn)相位匹配的波段范圍寬(409.6—3500nm);

寬透明范圍(190—3500nm);

倍頻轉換效率高(相當于KDP晶體的6倍);

高損傷域值(100ps脈寬的1064nm  10GW/cm2);

光學均勻性好(dn10-6);

溫度接收角寬(≈55℃左右);

機械,物理性能好.


BBO晶體的產(chǎn)品規(guī)格:


尺寸公差    (W±0.1mm) x ( H±0.1mm) x (L+0.2mm/-0.1mm)    

角度公差    Δθ< 0.25°, Δφ< 0.25°    

平面度    λ/10 @ 633nm    

波前畸變    < λ/8 @ 633nm    

表面光潔度    10/5 scratch/dig    

平行度    < 20 arc seconds    

垂直度    < 5 arc minutes    

通光孔徑    ≥中心直徑95%    

倒邊     x 45°±5°chamfer    

鍍膜    R < 0.2% @ 1064nm, R < 0.5% @ 532nm    

損傷閾值(AR鍍膜)    >0.5 GW/cm2 for 1064nm,TEM00,10ns,10HZ    

>0.3 GW/cm for 532nm,TEM00,10ns,10HZ    



注:福州宇晶光電可接受客戶不同尺寸規(guī)格的BBO晶體定制,也可根據(jù)客戶具體應用需求推薦相應的BBO晶體。


產(chǎn)品推薦
“BBO晶體”信息由發(fā)布人自行提供,其真實性、合法性由發(fā)布人負責。交易匯款需謹慎,請注意調查核實。
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